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聚焦中正動態(tài),洞悉行業(yè)發(fā)展
真空實驗爐是使用不同的加熱元件,型號齊全,安全可靠,同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造,適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,適用于材料學相關專業(yè)的教學和科研實驗,由溫控系統(tǒng)、管式爐、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)五部分構成,可在真空或氣氛環(huán)境下制備納米材料等。真空實驗爐的結構:
真空實驗爐分立式和臥式兩種,根據(jù)爐溫高低和客戶的工藝要求,采用石墨或鉬或鎢作發(fā)熱體及隔熱屏??删幊蘌ID調節(jié)。爐膛可整體移出,便于維護。配備充氣裝置、可向爐內(nèi)充入保護性氣體或工作氣體,充氣流量可調。配備內(nèi)循環(huán)冷卻裝置,可加速爐內(nèi)物料冷卻,縮短工作周期,利于提高產(chǎn)品質量和工作效率。
根據(jù)客戶需要,可升級配置:
1、可配內(nèi)置式快冷系統(tǒng);
2、可配PLC可編程控制器及圖形操作終端(觸摸屏)控制系統(tǒng);
3、真空實驗爐采用特殊設計及選材的發(fā)熱體和隔熱屏,燒結溫度可達2100℃以上;
4、微負壓燒結系統(tǒng):在燒結階段可設定一個微負壓力值,實現(xiàn)爐內(nèi)恒壓燒結。
5、真空實驗爐可以根據(jù)真空度的要求加配油擴散泵,極限真空度可達6.7×10-4Pa。